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描述:激光直寫技術采用全新的技術路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應用于各種受體材料,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
廠商性質
生產廠家更新時間
2024-01-25訪問量
896品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 化工 |
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激光波長 | 405nm | 特征尺寸 | 100nm |
激光功率 | 120mW至300mW(可選) | 刻寫范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm(可選) |
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國和國內的高層次人才組成,公司設有博士后流動站。
激光直寫技術采用全新的技術路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應用于各種受體材料,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
新一代激光直寫光刻設備特點
具有核心知識產權的國產激光直寫設備
具有超越衍射極限的加工能力
激光直寫技術可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設備并提供各種微納結構樣品的加工服務。
部分加工樣品如下圖