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型號:

激光直寫技術

描述:激光直寫技術采用全新的技術路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應用于各種受體材料,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

  • 廠商性質

    生產廠家
  • 更新時間

    2024-01-25
  • 訪問量

    896
詳細介紹
品牌其他品牌應用領域化工
激光波長405nm特征尺寸100nm
激光功率120mW至300mW(可選)刻寫范圍50mm×50mm至100mm×100mm(可選)

蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司,公司由歸國和國內的高層次人才組成,公司設有博士后流動站。

激光直寫技術采用全新的技術路徑提高加工分辨率,一舉突破突衍射極限的限制,成功實現(xiàn)納米尺度加工;突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀,可以廣泛應用于各種受體材料,極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。

新一代激光直寫光刻設備特點

具有核心知識產權的國產激光直寫設備

具有超越衍射極限的加工能力

激光直寫技術可適用于多種受體材料

本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設備并提供各種微納結構樣品的加工服務。

部分加工樣品如下圖

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